Ano ang tiyak na aplikasyon ng mga pinahiran na bahagi ng TAC sa patlang ng semiconductor?

Mga pisikal na katangian ng patong ng Tantalum Carbide (TAC)

Ang application ng tantalum carbide (TAC) coating sa semiconductor field

1. Mga sangkap ng Epitaxial Growth Reactor

Ang TAC Coating ay malawakang ginagamit sa Chemical Vapor Deposition (CVD) Reactor Components ng Gallium Nitride (GaN) Epitaxial at Silicon Carbide (SIC) epitaxial, kabilang angWafer Carriers, pinggan ng satellite, nozzle at sensor. Ang mga sangkap na ito ay nangangailangan ng napakataas na tibay at katatagan sa mataas na temperatura at kinakaing unti -unting kapaligiran. Ang patong ng TAC ay maaaring epektibong mapalawak ang kanilang buhay sa serbisyo at pagbutihin ang ani.

2. Single Crystal Growth Component

Sa nag -iisang proseso ng paglago ng kristal ng mga materyales tulad ng SIC, GaN at aluminyo nitride (AIN),TAC Coatingay inilalapat sa mga pangunahing sangkap tulad ng mga crucibles, mga may hawak ng kristal ng binhi, gabay na singsing at mga filter. Ang mga materyales sa grapiko na may patong ng TAC ay maaaring mabawasan ang paglilipat ng karumihan, mapabuti ang kalidad ng kristal at mabawasan ang density ng depekto.

3. Mataas na temperatura na pang -industriya na sangkap

Ang patong ng TAC ay maaaring magamit sa mataas na temperatura na pang -industriya na aplikasyon tulad ng mga lumalaban na mga elemento ng pag -init, mga nozzle ng iniksyon, mga singsing sa kalasag at mga fixture ng brazing. Ang mga sangkap na ito ay kailangang mapanatili ang mahusay na pagganap sa mga kapaligiran na may mataas na temperatura, at ang paglaban ng init ng TAC at paglaban ng kaagnasan ay ginagawang isang mainam na pagpipilian.

4. Mga heaters sa MOCVD Systems

Ang TAC-coated grapayt heaters ay matagumpay na ipinakilala sa mga metal na organikong kemikal na singaw ng singaw (MOCVD). Kung ikukumpara sa tradisyonal na mga heaters na pinahiran ng PBN, ang mga heaters ng TAC ay maaaring magbigay ng mas mahusay na kahusayan at pagkakapareho, bawasan ang pagkonsumo ng kuryente, at bawasan ang paglabas ng ibabaw, sa gayon ay pagpapabuti ng integridad.

5. Wafer Carriers

Ang mga co-coated wafer carrier ay may mahalagang papel sa paghahanda ng mga third-generation semiconductor na materyales tulad ng SIC, AIN at GAN. Ipinakita ng mga pag -aaral na ang rate ng kaagnasan ngTAC Coatingssa mataas na temperatura ammonia at hydrogen environment ay mas mababa kaysa saSic coatings, na kung saan ay nagpapakita ng mas mahusay na katatagan at tibay sa pangmatagalang paggamit.