Balita

Noong Setyembre 5, ang mga customer ng Vetek Semiconductor ay bumisita sa SIC Coating at TAC Coating Factories at naabot ang karagdagang mga kasunduan sa pinakabagong mga solusyon sa proseso ng epitaxial.

Noong Setyembre 5, 2025, ang isang customer mula sa Poland ay bumisita sa isang pabrika sa ilalim ng Vetek upang malaman ang tungkol sa aming mga advanced na teknolohiya at makabagong proseso sa paggawa ng mga produktong carbon fiber.

Ang mga high-purity na materyales ay mahalaga para sa paggawa ng semiconductor. Ang mga prosesong ito ay nagsasangkot ng matinding init at kinakaing unti-unting mga kemikal. Ang CVD-SiC (Chemical Vapor Deposition Silicon Carbide) ay nagbibigay ng kinakailangang katatagan at lakas. Isa na itong pangunahing pagpipilian para sa mga advanced na bahagi ng kagamitan dahil sa mataas na kadalisayan at density nito.

Sa mundo ng Silicon Carbide (SiC) semiconductors, karamihan sa mga spotlight ay kumikinang sa 8-pulgadang epitaxial reactor o sa mga sali-salimuot ng wafer polishing. Gayunpaman, kung susuriin natin ang supply chain pabalik sa pinakasimula—sa loob ng Physical Vapor Transport (PVT) furnace—isang pangunahing "rebolusyong materyal" ang tahimik na nagaganap.

Sa panahon ng mabilis na ebolusyon ng MEMS (Micro-Electromechanical Systems), ang pagpili ng tamang piezoelectric na materyal ay isang make-or-break na desisyon para sa performance ng device. PZT (Lead Zirconate Titanate) thin-film wafers ang lumabas bilang pangunahing pagpipilian kaysa sa mga alternatibo tulad ng AlN (Aluminum Nitride), na nag-aalok ng mahusay na electromechanical coupling para sa mga cutting-edge na sensor at actuator.

Habang patuloy na umuunlad ang pagmamanupaktura ng semiconductor patungo sa mga advanced na node ng proseso, mas mataas na pagsasama, at kumplikadong mga arkitektura, ang mga mapagpasyang salik para sa ani ng wafer ay sumasailalim sa isang banayad na pagbabago. Para sa customized na semiconductor wafer manufacturing, ang breakthrough point para sa yield ay hindi na nakasalalay lamang sa mga pangunahing proseso tulad ng lithography o etching; Ang mga susceptor na may mataas na kadalisayan ay lalong nagiging pinagbabatayan na variable na nakakaapekto sa katatagan at pagkakapare-pareho ng proseso.