Balita

Tuklasin ang mga kakayahan sa CNC precision machining ng VeTek Semiconductor para sa high-purity graphite, CVD SiC/TaC coated na mga bahagi, solidong bahagi ng SiC, at mga custom na solusyon sa semiconductor.

Lumahok ang Vetek Semiconductor sa CSEAC 2026 sa Wuxi, China, na nagpapakita ng mga advanced na CVD SiC at TaC coating nito, mga bahagi ng grapayt, SiC ceramics at iba pang semiconductor core na materyales. Ang kaganapan ay nagbigay ng mahahalagang pagkakataon upang palakasin ang mga pakikipagsosyo sa customer, pag-usapan ang mga bagong teknolohiya, isulong ang mga proyekto ng pakikipagtulungan at tuklasin ang mga pagkakataon sa hinaharap sa buong industriya ng global na semiconductor.

Dalubhasa ang VETEK Semiconductor sa anim na pangunahing kategorya ng produkto, kabilang ang CVD SiC coatings, CVD TaC coatings, Solid SiC, high-purity graphite at carbon fiber, quartz at advanced ceramics, at semiconductor wafers. Ang aming mga produkto ay nagsisilbi sa mga kritikal na proseso ng semiconductor tulad ng epitaxy, etching, at crystal growth. Sa dalawahang platform ng R&D, isang ganap na pinagsama-samang sistema ng pagmamanupaktura, at mga pandaigdigang kakayahan sa supply, kinikilala kami bilang isang Pambansang Espesyalista at Sopistikadong "Little Giant" na Enterprise.

Ang bagong semiconductor manufacturing facility ng VETEK ay pumasok sa semiconductor-grade cleanroom construction stage. Ang bagong site ay susuportahan ang produksyon ng CVD SiC coated graphite component, TaC coatings, PyC coatings, Solid SiC parts, at high-purity graphite materials para sa mga semiconductor application.

Nagbabahagi ang VeTek Semiconductor ng mga pangunahing insight mula sa SNEC 2026 Shanghai, na nagha-highlight ng high-purity graphite, CVD SiC coated graphite component, carbon composites, at advanced na thermal field na materyales na sumusuporta sa susunod na henerasyong solar manufacturing at photovoltaic production.

Ipinagdiriwang ng VETEK ang seremonya ng topping-out ng bago nitong base ng pagmamanupaktura ng semiconductor, pagpapalawak ng kapasidad ng produksyon para sa mga advanced na teknolohiya ng SiC, TaC at PyC coating, Solid SiC component, high-purity graphite parts at semiconductor thermal field materials.

Noong Setyembre 5, ang mga customer ng Vetek Semiconductor ay bumisita sa SIC Coating at TAC Coating Factories at naabot ang karagdagang mga kasunduan sa pinakabagong mga solusyon sa proseso ng epitaxial.

Noong Setyembre 5, 2025, bumisita ang isang customer mula sa Poland sa isang pabrika sa ilalim ng VETEK upang malaman ang tungkol sa aming mga advanced na teknolohiya at mga makabagong proseso sa paggawa ng mga produktong carbon fiber.

Ang SiC-coated graphite wafer carriers ay kritikal na thermal at mechanical component sa MOCVD system para sa GaN at LED epitaxy. Ipinapaliwanag ng teknikal na artikulong ito kung paano naiimpluwensyahan ng carrier geometry, pocket depth, flatness, graphite properties at CVD SiC coating condition ang pamamahagi ng temperatura ng wafer, epitaxial uniformity at process repeatability. Sinusuri din nito ang kaugnayan sa pagitan ng pagkakapareho ng thermal at yield ng device, mga karaniwang mekanismo ng pagkasira ng coating, mga pagsasaalang-alang sa buhay ng serbisyo at ang data ng engineering na kinakailangan kapag tumutukoy ng custom o kapalit na MOCVD wafer carrier.

Pinagsasama ng SiC-coated graphite ang machinability at thermal behavior ng high-purity graphite na may chemically stable na CVD silicon carbide process surface. Ipinapaliwanag ng teknikal na puting papel na ito kung bakit ang hubad na grapayt ay maaaring maging pinagmumulan ng pakikipag-ugnayan ng kemikal, mga dumi at mga particle sa mga reaktor ng epitaxy, kung paano lumilikha ang CVD SiC ng mas matatag na hangganan ng proseso, at kung bakit kailangang i-engineered nang magkasama ang integridad ng coating, compatibility ng substrate, geometry at thermal behavior. Sinusuri din nito ang iba't ibang pangangailangan ng silicon at SiC epitaxy at binabalangkas kung paano dapat tukuyin ang mga coated susceptor para sa mga aplikasyon ng semiconductor.

Ang SiC-coated graphite susceptor ay isang kritikal na bahagi ng thermal-field sa semiconductor epitaxy sa halip na isang wafer holder lamang. Ipinapaliwanag ng teknikal na artikulong ito kung paano nagtutulungan ang susceptor geometry, flatness, pocket design, graphite properties at CVD SiC coating upang maimpluwensyahan ang wafer thermal boundaries, temperature distribution at epitaxial uniformity. Sinusuri din nito ang mga karaniwang mode ng pagkabigo ng susceptor, pagkasira ng coating, mga panganib sa particle at ang mga pangunahing parameter ng engineering na kinakailangan kapag tumutukoy ng custom o kapalit na epitaxy susceptor.

Ang CVD silicon carbide coating ay ginawa sa pamamagitan ng pagdedeposito ng siksik na SiC layer sa high-purity graphite sa pamamagitan ng kinokontrol na gas-phase at mga reaksyon sa ibabaw. Ipinapaliwanag ng artikulong ito ang paghahanda ng substrate, paglaki ng CVD na nakabatay sa MTS, nucleation at mass transfer, kapal at pagkakapareho ng coating, stress sa interface ng SiC/graphite, karaniwang mga depekto at inspeksyon sa antas ng semiconductor. Ipinapakita rin nito kung bakit kailangang i-engineered ang mga parameter ng proseso at geometry ng bahagi para sa mga susceptor at wafer carrier na ginagamit sa epitaxy at MOCVD.

Ang Silicon carbide coating ay isang siksik na CVD SiC layer na inilapat sa mga high-purity graphite na bahagi na ginagamit sa pagproseso ng semiconductor. Ipinapaliwanag ng artikulong ito kung bakit pinahiran ng SiC ang graphite, kung paano nabuo ang CVD SiC, kung aling mga coating properties at interface factor ang kumokontrol sa performance, at kung paano sinusuportahan ng SiC-coated graphite ang silicon epitaxy, SiC epitaxy at MOCVD. Sinusuri din nito ang kapal ng coating, CTE mismatch, delamination risk at ang impormasyon sa engineering na kinakailangan kapag tinutukoy ang mga susceptor, wafer carrier at iba pang coated na bahagi.

Teknikal na puting papel kung paano naiimpluwensyahan ng CVD SiC at TaC coatings ang thermal stability, contamination, particles at repeatability sa semiconductor epitaxy, na may mga parameter table, isang coating-selection decision tree, mga mekanismo ng pagkabigo at pamantayan ng RFQ.

Nasa volume production na ngayon ang 8-inch SiC, ngunit ang wafer yield — hindi capacity — ang naghihiwalay sa mga nanalo. Ang gabay na ito ay nagpapaliwanag kung bakit ang TaC coating sa mga bahagi ng graphite hot-zone ay nagpapasya ng ani, at kung paano maging kwalipikado ang isang supplier.

Sa modernong paggawa ng chip, ang substrate ay nagbibigay ng pisikal na suporta at isang paraan ng pagwawaldas ng init, habang tinutukoy ng epitaxial layer ang mga limitasyon sa pagganap ng kuryente ng device. Ang artikulong ito ay nagbibigay ng malalim na pagsusuri sa mga pangunahing pagkakaiba sa pagitan ng single-crystal silicon at silicon carbide substrates at CVD/MBE epitaxial na mga proseso, at ipinapakita kung paano pinahuhusay ng teknolohiya ng epitaxial ang pagganap ng mga high-frequency at high-voltage na device sa pamamagitan ng pagbabawas ng defect density at pagsasama ng strain engineering. Kung ikaw ay isang process engineer o isang procurement decision-maker, tutulungan ka ng gabay na ito na mabilis na matukoy ang pinaka-angkop na diskarte sa pagpili ng wafer.