Silicon Epitaxy

Ang Silicon Epitaxy, EPI, Epitaxy, Epitaxial ay tumutukoy sa paglaki ng isang layer ng kristal na may parehong direksyon ng kristal at magkaibang kapal ng kristal sa isang kristal na silikon na substrate. Ang teknolohiya ng paglago ng epitaxial ay kinakailangan para sa pagmamanupaktura ng mga semiconductor discrete component at integrated circuits, dahil ang mga impurities na nakapaloob sa semiconductors ay kinabibilangan ng N-type at P-type. Sa pamamagitan ng kumbinasyon ng iba't ibang uri, ang mga semiconductor device ay nagpapakita ng iba't ibang function.

Silicon epitaxy paglago paraan ay maaaring nahahati sa gas phase epitaxy, likido phase epitaxy(LPE), solid phase epitaxy, kemikal singaw pagtitiwalag paglago paraan ay malawakang ginagamit sa mundo upang matugunan ang sala-sala integridad.

Ang karaniwang silicon epitaxial na kagamitan ay kinakatawan ng kumpanyang Italyano na LPE, na mayroong pancake epitaxial hy pnotic tor,barrel type hy pnotic tor,semiconductor hy pnotic,wafer carrier at iba pa. Ang schematic diagram ng hugis-barrel na epitaxial hy pelector reaction chamber ay ang mga sumusunod. Ang VeTek Semiconductor ay maaaring magbigay ng hugis-barrel na wafer na epitaxial hy pelector. Napaka-mature ng kalidad ng SiC coated HY pelector. Kalidad na katumbas ng SGL; Kasabay nito, ang VeTek Semiconductor ay maaari ding magbigay ng silicon epitaxial reaction cavity quartz nozzle, quartz Baffle, bell jar at iba pang kumpletong produkto.

Vertial Epitaxial Susceptor para sa Silicon Epitaxy:

Ang pangunahing vertical epitaxial susceptor na produkto ng VeTek Semiconductor

SiC Coated Graphite Barrel Susceptor para sa EPI SiC Coated Barrel Susceptor CVD SiC Coated Barrel Susceptor LPE SI EPI Receptor Set

Horizonal Epitaxial Susceptor para sa Silicon Epitaxy:

Pangunahing pahalang na epitaxial susceptor na produkto ng Vetek Semiconductor

SiC coating Monocrystalline silicon epitaxial tray Suporta sa SiC Coated para sa LPE PE2061S Graphite Rotating Receiver