CVD SIC Pancake Susceptor

Ito semiconductor Ang CVD SIC Pancake Susceptor ay gawa gamit ang pinakabagong teknolohiya ng pag -aalis ng singaw ng kemikal (CVD) upang matiyak ang mahusay na tibay at matinding kakayahang umangkop sa temperatura. Ang mga sumusunod ay ang pangunahing mga pisikal na katangian nito:

● Katatagan ng thermal: Ang mataas na thermal katatagan ng CVD sic ay nagsisiguro ng matatag na pagganap sa ilalim ng mga kondisyon ng mataas na temperatura.

● Mababang koepisyent ng pagpapalawak ng thermal: Ang materyal ay may napakababang koepisyent ng pagpapalawak ng thermal, na nagpapaliit sa warping at pagpapapangit na dulot ng mga pagbabago sa temperatura.

● Paglaban sa kaagnasan ng kemikal: Ang mahusay na paglaban sa kemikal ay nagbibigay -daan upang mapanatili ang mataas na pagganap sa iba't ibang mga malupit na kapaligiran.

Tumpak na suporta at na -optimize na paglipat ng init

Ang Veteksemi's Pancake Susceptor Based SIC Coated ay idinisenyo upang mapaunlakan ang mga wafer ng semiconductor at magbigay ng mahusay na suporta sa panahon ng pag -aalis ng epitaxial. Ang SIC Pancake Susceptor ay dinisenyo gamit ang advanced na teknolohiya ng computational simulation upang mabawasan ang warping at pagpapapangit sa ilalim ng iba't ibang mga kondisyon ng temperatura at presyon. Ang tipikal na koepisyent ng pagpapalawak ng thermal ay tungkol sa 4.0 × 10^-6/° C, na nangangahulugang ang dimensional na katatagan nito ay makabuluhang mas mahusay kaysa sa tradisyonal na mga materyales sa mga kapaligiran na may mataas na temperatura, sa gayon tinitiyak ang pagkakapare-pareho ng kapal ng wafer (karaniwang 200 mm hanggang 300 mm).

Bilang karagdagan, ang CVD Pancake Susceptor ay nangunguna sa paglipat ng init, na may thermal conductivity ng hanggang sa 120 w/m · k. Ang mataas na thermal conductivity na ito ay maaaring mabilis at epektibong magsagawa ng init, mapahusay ang pagkakapareho ng temperatura sa loob ng hurno, matiyak ang pantay na pamamahagi ng init sa panahon ng pag -aalis ng epitaxial, at mabawasan ang mga depekto sa pag -aalis na sanhi ng hindi pantay na init. Ang na -optimize na pagganap ng paglipat ng init ay kritikal sa pagpapabuti ng kalidad ng pag -aalis, na maaaring epektibong mabawasan ang pagbabago ng proseso at pagbutihin ang ani.

Sa pamamagitan ng mga pag -optimize at pag -optimize ng pagganap na ito, ang Vetek Semiconductor's CVD SIC Pancake Susceptor ay nagbibigay ng isang matatag na pundasyon para sa pagmamanupaktura ng semiconductor, tinitiyak ang pagiging maaasahan at pagkakapare -pareho sa ilalim ng malupit na mga kondisyon sa pagproseso at pagtugon sa mahigpit na mga kinakailangan ng modernong industriya ng semiconductor para sa mataas na katumpakan at kalidad.

CVD sic film crystal istraktura

Mga pangunahing pisikal na katangian ng CVD sic coating

Mga pangunahing pisikal na katangian ng CVD sic coating
Ari -arian	Karaniwang halaga
Istraktura ng kristal	FCC β phase polycrystalline, pangunahin (111) nakatuon
Density	3.21 g/cm³
Tigas	2500 Vickers Hardness （500g load）
Laki ng butil	2 ~ 10mm
Kadalisayan ng kemikal	99.99995%
Kapasidad ng init	640 j · kg-1· K-1
Sublimation temperatura	2700 ℃
Lakas ng flexural	415 MPa RT 4-point
Modulus ni Young	430 GPa 4pt Bend, 1300 ℃
Thermal conductivity	300w · m-1· K-1
Pagpapalawak ng thermal (CTE)	4.5 × 10-6K-1