Sic coated e-chuck

Habang ang Gallium Nitride (GaN) ay nagiging pangunahing materyal ng semiconductor ng ikatlong henerasyon, ang mga aplikasyon nito sa mataas na dalas, mataas na kapangyarihan at optoelectronic na patlang ay patuloy na lumawak, tulad ng 5G na mga istasyon ng base ng komunikasyon, mga module ng kuryente at mga aparato ng LED. Gayunpaman, sa pagmamanupaktura ng semiconductor, lalo na sa proseso ng etching, ang mga wafer ay kailangang sumailalim sa mataas na temperatura, mataas na kapaligiran ng kaagnasan ng kemikal at napakataas na mga kinakailangan sa proseso ng katumpakan, na ipinapasa ang napakataas na pamantayan sa teknikal para sa mga tool ng wafer.

Ang Vetek Semiconductor's SIC Ceramic Pallets ay idinisenyo para sa gan wafer etching at nag -aalok ng mataas na kadalisayan, mahusay na init at kemikal na pagtutol upang suportahan ang iyong proseso ng pagmamanupaktura. Ito ay angkop para sa proseso ng plasma etching (ICP/RIE) at isang mainam na pagpipilian sa modernong kagamitan sa pagmamanupaktura ng semiconductor.

Pangunahing lakas

1. Mataas na kadalisayan sic ceramic material

Katatagan ng kemikal: Ang kadalisayan ng materyal ay higit sa 99.5%, at walang polusyon sa gan wafer.

Mataas na katigasan at pagsusuot ng pagsusuot: katigasan na malapit sa brilyante, magagawang makatiis ng mataas na dalas na paggamit, hindi nakikita na mga pagbabago at mga gasgas.

2. Mahusay na pagganap ng thermal

Mataas na thermal conductivity, koepisyent ng GaN-matched ng thermal expansion (CTE): Bawasan ang panganib ng wafer cracking sa proseso ng etching.

3. Super Chemical Corrosion Resistance

Maaari itong gumana sa mataas na konsentrasyon ng fluoride, klorido at iba pang kinakaing unti -unting kapaligiran ng gas sa mahabang panahon.

4. Disenyo ng katumpakan at machining

Ang pagkamagaspang sa ibabaw at flatness ay matiyak ang makinis na paglalagay ng wafer at pag -iingat ng pagkakapareho upang matugunan ang mga kinakailangan sa proseso ng mataas na katumpakan.

Ang mga sukat, grooves, naayos na butas at iba pang mga istraktura ay maaaring ipasadya ayon sa mga kinakailangan sa customer.

Larangan ng SIC coated e-chuck application

● Plasma etching (ICP/RIE)

Nagbibigay ito ng wafer fixation at suporta sa mataas na temperatura at mataas na kapaligiran ng kaagnasan ng kemikal, na angkop para sa proseso ng etching ng GaN, SIC at iba pang mga materyales.

● Paglipat at pag -iimbak ng Wafer

Magbigay ng isang mataas na patag at platform na walang polusyon upang maprotektahan ang kaligtasan ng wafer sa proseso ng pagmamanupaktura.

Mga Customized na Serbisyo

Nag -aalok ang Vetek Semiconductor ng mga pasadyang serbisyo upang matugunan ang iyong mga tukoy na pangangailangan sa proseso:

● Pagpapasadya ng laki: Ang laki ng papag ay maaaring ipasadya ayon sa laki ng wafer (Ø4 ~ 12 pulgada).

● Pag -optimize ng istraktura: Suporta sa uka, butas ng pagpoposisyon, nakapirming punto at iba pang pagpapasadya ng istraktura.

Ito semiconductorSIC Coated E-Chuck Products Shops: