Sic ICP etching plate

Ang teknolohiya ng ICP etching (inductively coupled plasma etching) ay isang proseso ng katumpakan na etching sa pagmamanupaktura ng semiconductor, na karaniwang ginagamit para sa mataas na katumpakan at mataas na kalidad na paglipat ng pattern, lalo na angkop para sa malalim na hole etching, pagproseso ng micro-pattern, atbp.

SemiconAng sic ICP etching plate ay espesyal na idinisenyo para sa proseso ng ICP, gamit ang mataas na kalidad na mga materyales na SIC, at maaaring magbigay ng mahusay na pagganap sa mataas na temperatura, malakas na kinakaing unti-unti at mataas na enerhiya na kapaligiran. Bilang isang pangunahing sangkap para sa pagdadala at pagsuporta,ICP etchTinitiyak ng plate ang katatagan at kahusayan sa panahon ng proseso ng etching.

Sic ICP etching plateMga Tampok ng Produkto

● Mataas na temperatura tolerance

Ang SIC ICP etching plate ay maaaring makatiis ng mga pagbabago sa temperatura hanggang sa 1600 ° C, tinitiyak ang matatag na paggamit sa mataas na temperatura ng ICP etching na kapaligiran at pag -iwas sa pagpapapangit o pagkabulok ng pagganap na sanhi ng pagbabagu -bago ng temperatura.

●  Napakahusay na paglaban ng kaagnasan

Silicon carbide materialmaaaring epektibong pigilan ang lubos na kinakaing unti-unting mga kemikal tulad ng hydrogen fluoride, hydrogen chloride, sulfuric acid, atbp na maaaring mailantad sa panahon ng pag-etching, tinitiyak na ang produkto ay hindi nasira sa panahon ng pangmatagalang paggamit.

●  Mababang koepisyent ng pagpapalawak ng thermal

Ang SIC ICP etching plate ay may isang mababang koepisyentong pagpapalawak ng thermal, na maaaring mapanatili ang mahusay na dimensional na katatagan sa mataas na temperatura ng kapaligiran, bawasan ang stress at pagpapapangit na sanhi ng mga pagbabago sa temperatura, at matiyak ang tumpak na proseso ng etching.

●  Mataas na katigasan at paglaban sa pagsusuot

Ang SIC ay may katigasan ng hanggang sa 9 MOHS tigas, na maaaring epektibong maiwasan ang mekanikal na pagsusuot na maaaring mangyari sa panahon ng proseso ng etching, palawakin ang buhay ng serbisyo, at bawasan ang dalas ng kapalit.

● eXcellent thermal conductivity

Ang mahusay na thermal conductivity ay nagsisiguro na angSic traymaaaring mabilis na mawala ang init sa panahon ng proseso ng etching, pag -iwas sa mga lokal na pagtaas ng temperatura na sanhi ng akumulasyon ng init, sa gayon tinitiyak ang katatagan at pagkakapareho ng proseso ng etching.

Sa suporta ng isang malakas na pangkat ng teknikal, ang Veteksemicon sic ICP etching tray ay nakumpleto ang iba't ibang mga mahirap na proyekto at nagbibigay ng mga pasadyang mga produkto ayon sa iyong mga pangangailangan. Inaasahan namin ang iyong pagtatanong.

Mga pangunahing pisikal na katangian ng CVD sic: