Ano ang isang electrostatic chuck (ESC)?

Ang electrostatic chuck (ESC), na kilala rin bilang electrostatic chuck (ESC, e-chuck), ay isang kabit na gumagamit ng prinsipyo ng electrostatic adsorption upang hawakan at ayusin ang materyal na na-adsorbed. Ito ay angkop para sa mga vacuum at plasma na kapaligiran. Ang pangunahing pag-andar nito ay ang adsorb ultra-Malinis na manipis na mga sheet (tulad ng mga wafer ng silikon) at panatilihin ang materyal na na -adsorbed sa isang mahusay na flat, na maaari ring mapigilan ang pagpapapangit ng materyal na na -ad sa panahon ng proseso at maaari nitong ayusin ang temperatura ng adsorbate.

Ang isang electrostatic chuck (ESC) ay isang espesyal na uri ng chuck na gumagamit ng puwersa ng electrostatic upang hawakan, pindutin at kunin ang mga bagay (workpieces). Ang anumang materyal ay nagdadala ng positibo at negatibong singil na hindi nakikita ng hubad na mata. Kapag ang materyal ay nakalagay sa ESC at isang boltahe ng bipolar ay inilalapat sa panloob na mga electrodes ng ESC, ang positibo at negatibong singil ay lilipat sa loob ng materyal upang tumugma sa polaridad ng mga panloob na electrodes ng ESC. Ang pang -akit na ito sa pagitan ng ESC at ang materyal ay tinatawag na Electrostatic Force at ito rin ang pangunahing prinsipyo sa likod ng aming mga chuck.

Mga Bentahe ng Produkto

Mayroon itong malawak na saklaw ng temperatura ng operating (-50 hanggang 700 ℃)

Ang mga tasa ng electrostatic suction na ito ay nagtatampok ng mahusay na lakas, thermal conductivity at thermal shock resistance, at maaaring umangkop sa isang malawak na saklaw ng temperatura sa pamamagitan ng proprietary ceramic volume control control.

Mataas na paglaban sa kaagnasan

Ang mga tasa ng electrostatic suction na ito ay may mahusay na paglaban sa kaagnasan sa mga gas ng halogen.

Pagproseso ng mababang-butil

Ang paggamot sa mababang-butil ay maaaring makamit sa pamamagitan ng paggamot sa ibabaw at espesyal na paglilinis

Mataas na kadalisayan

Ang mga produktong may kadalisayan na 99.9% o mas mataas ay magagamit din.

Pag -andar ng Pag -init

Ang teknolohiyang pag-init ng high-precision ay maaaring isama sa pagpapaandar ng pampainit, at ang temperatura ng wafer ay maaaring kontrolado sa loob ng ± 1%.

Pag -andar ng paglamig

Ang mga tasa ng electrostatic suction na ito ay may napakataas na pagganap ng paglamig sa pamamagitan ng pag -bonding ng mga ceramic plate na may mataas na thermal conductivity at paglamig plate.

Radio frequency electrode

Ang mga bulk na metal na electrodes ay maaaring sabay na magbigay ng matatag na wafer clamping at radio frequency plasma henerasyon.

PArameter

1.Sa larangan ng semiconductor at electronic manufacturing: Sa panahon ng semiconductor at electronic na mga proseso ng pagmamanupaktura, ang mga tasa ng electrostatic suction ay ginagamit upang ayusin at hawakan ang manipis at marupok na mga wafer ng silikon, wafers, atbp.

2. Industriya ng Salamin at Seramika: Sa panahon ng mga proseso ng pagputol, paggiling, at paghawak ng baso at keramika, ang mga tasa ng pagsipsip ng electrostatic ay maaaring magsagawa ng hindi mapanirang operasyon sa mga malutong na materyales, pagbabawas ng rate ng pagbasag ng produkto.

3. Paggawa ng Makinarya ng Katumpakan at Optical Components: Para sa mga makinarya ng katumpakan at mga optical na sangkap, ang mga tasa ng pagsipsip ng electrostatic ay maaaring magbigay ng matatag na puwersa ng adsorption, na pumipigil sa pagpapapangit o mga gasgas sa panahon ng pagproseso.

4. Mga awtomatikong linya ng produksyon: Sa mga awtomatikong linya ng produksyon, ang mga tasa ng electrostatic suction ay malawakang ginagamit sa pagpoposisyon, paghawak at pagpupulong ng mga bahagi, atbp, pagpapahusay ng antas ng automation at kahusayan ng linya ng produksyon.