Alumina ceramic vacuum chuck

Ang alumina ceramic vacuum chuck ay isang may hawak ng wafer para sa mga proseso ng epitaxial sa pagproseso ng semiconductor. Ito ay isang pangunahing tool para sa pag -stabilize ng mga wafer at tinitiyak ang pantay na paglaki ng mga epitaxial layer. Malawakang ginagamit ito sa mga kagamitan sa epitaxial tulad ngMocvdatLpcvd.

Ang Vetek semiconductor alumina ceramic vacuum chuck ay gumaganap ng isang mahalagang papel sa wafer thinning at paggiling yugto ng semiconductor manufacturing. Ang mga yugto na ito ay nagsasangkot ng tumpak na pagbabawas ng kapal ngWafer substrateUpang mapahusay ang pagwawaldas ng init ng chip, na mahalaga sa pagpapabuti ng kahusayan at buhay ng mga aparato ng semiconductor.

Katugma sa maraming laki ng wafer: Ang Vetek Semiconductor alumina ceramic vacuum chuck ay idinisenyo upang suportahan ang isang malawak na hanay ng mga sukat ng wafer, kabilang ang 2, 3, 4, 5, 6, 8, at 12 pulgada. Ang kakayahang ito ay ginagawang angkop para sa iba't ibang mga kapaligiran sa paggawa ng semiconductor, tinitiyak ang pare -pareho at maaasahang pagganap sa iba't ibang mga laki ng wafer.

Higit na mahusay na komposisyon ng materyal: Ang batayan ng alumina ceramic vacuum chuck ay gawa sa ultra-pure 99.9999% alumina (AL₂O₃), na nag -aalok ng mahusay na pagtutol sa pag -atake ng kemikal at katatagan ng thermal. Ang ibabaw ng chuck ay gawa sa porousSilicon Carbide (sic). Ang porous ceramic material ay may isang siksik at pantay na istraktura, na nagpapabuti sa tibay at pagganap nito.

Mga Pakinabang ngPorous Ceramic Technology：

Kadalisayan ng materyal at tibay: Ginawa ng 99.99% purong alumina, ang aming alumina ceramic vacuum chuck ay lumalaban sa pag -atake ng kemikal at nag -aalok ng mahusay na katatagan ng thermal, na ginagawang perpekto para sa labis na hinihingi na mga kapaligiran sa pagmamanupaktura.

Optimal porosity at air permeability: Ang pantay na ipinamamahagi ng mga mikropono ay nagbibigay ng mahusay na pagkamatagusin ng hangin at pantay na puwersa ng adsorption, na nagreresulta sa makinis at pare -pareho na operasyon.

Pinahusay na Flatness at Parallelism: Ang microporous alumina ceramic vacuum chuck ay may mahusay na flatness at parallelism, tinitiyak ang tumpak na paghawak at katatagan ng wafer.

Mga Kakayahang Serbisyo ng Serbisyo: Ang Veteksemi ay maaaring magbigay ng iba't ibang mga napapasadyang mga hugis, kabilang ang pag -ikot, parisukat, singsing at iba pang mga disenyo, na may kapal na mula sa 3mm hanggang 10mm. Tinitiyak ng pagpapasadya na ito na ang aming alumina ceramic vacuum chuck ay nakakatugon sa mga tiyak na pangangailangan ng iba't ibang mga proseso ng pagmamanupaktura ng semiconductor at tiyak na ang iyong mainam na pagpipilian.

Ang Vetek Semiconductor ay nakatuon sa pagbibigay ng mga advanced na solusyon sa teknolohiya at produkto para sa industriya ng semiconductor, at taimtim kaming umaasa na maging iyong pangmatagalang kasosyo sa China.

AngPormula ng kemikal ngalumina keramika：

Ito semiconductorAlumina ceramic vacuum chuck shops: