Silicon carbide shower head

Ang Vetek Semiconductor Silicon Carbide Shower Head ay pangunahing gawa sa sic. Sa pagproseso ng semiconductor, ang pangunahing pag -andar ng silikon na karbida shower head ay pantay na ipamahagi ang reaksyon gas upang matiyak ang pagbuo ng isang pantay na pelikula sa panahonChemical Vapor Deposition (CVD)opisikal na pag -aalis ng singaw (PVD)mga proseso. Dahil sa mahusay na mga katangian ng SIC tulad ng mataas na thermal conductivity at katatagan ng kemikal, ang SIC shower head ay maaaring gumana nang mahusay sa mataas na temperatura, bawasan ang hindi pantay na daloy ng gas sa panahon ngproseso ng pag -aalis, at sa gayon ay mapabuti ang kalidad ng layer ng pelikula.

Ang Silicon Carbide Shower Head ay maaaring pantay na ipamahagi ang reaksyon ng gas sa pamamagitan ng maraming mga nozzle na may parehong siwang, tiyakin ang pantay na daloy ng gas, maiwasan ang mga lokal na konsentrasyon na masyadong mataas o masyadong mababa, at sa gayon ay mapabuti ang kalidad ng pelikula. Pinagsama sa mahusay na mataas na temperatura ng paglaban at katatagan ng kemikal ngCvd sic, walang mga particle o kontaminado ang pinakawalan sa panahon ngProseso ng Pag -aalis ng Pelikula, na kritikal sa pagpapanatili ng kadalisayan ng pag -aalis ng pelikula.

Core Performance Matrix

Mga pangunahing tagapagpahiwatig ng teknikal na pagtutukoy ng mga pamantayan sa pagsubok

Base Material 6N grade Chemical Vapor Deposition Silicon Carbide Semi F47-0703

Thermal conductivity (25 ℃) 330 w/(M · K) ± 5%ASTM E1461

Saklaw ng temperatura ng operating -196 ℃ ~ 1650 ℃ Cycle Stability MIL-STD-883 Paraan

Aperture machining katumpakan ± 0.005mm (Laser Microhole Machining Technology) ISO 286-2

Surface Roughness RA ≤0.05μm (Mirror Grade Treatment) JIS B 0601: 2013

Triple Process Innovation Advantage

Kontrol ng Airflow ng Nanoscale

1080 Hole Matrix Design: Nag -ampon ng Asymmetric Honeycomb Structure Upang Makamit ang 95.7% Pagkapareho ng Pamamahagi ng Gas (Sinusukat na Data)

Teknolohiya ng gradient aperture: 0.35mm panlabas na singsing → 0.2mm center progresibong layout, pagtanggal ng epekto sa gilid

Proteksyon ng Deposit ng Kontaminasyon ng Zero

Ultra-malinis na paggamot sa ibabaw:

Tinatanggal ng Ion Beam Etching ang nasira na layer ng subsurface

Atomic Layer Deposition (ALD) Al₂o₃ Protective Film (Opsyonal)

Thermal mechanical katatagan

Thermal Deformation Coefficient: ≤0.8μm/m · ℃ (73% na mas mababa kaysa sa tradisyonal na mga materyales)

Naipasa 3000 thermal shock test (RT↔1450 ℃ cycle)

SEM data ngCVD sic film crystal istraktura：

Mga pangunahing pisikal na katangian ng CVD Sic coating：

Vetek Semiconductor Silicon Carbide Shower Head Shops ：