Solid sic etching focus ring

Ang Vetek Semiconductor ay gumawa ng mahusay na pag-unlad sa CVD solid sic na teknolohiya at ngayon ay makagawa ng solidong sic etching na nakatuon sa singsing na may antas ng nangunguna sa mundo. Ang solidong sic etching ng Vetek semiconductor ay isang ultra-high na kadalisayan ng silikon na karbida na materyal na nilikha sa pamamagitan ng proseso ng pag-aalis ng singaw ng kemikal.

Ang solid SiC etching focusing ring ay ginagamit sa mga proseso ng pagmamanupaktura ng semiconductor, partikular sa mga plasma etching system. Ang SiC focus ring ay isang mahalagang bahagi na tumutulong na makamit ang tumpak at kontroladong pag-ukit ng mga wafer ng silicon carbide (SiC).

Sa panahon ng proseso ng pag-ukit ng plasma, ang focus ring ay gumaganap ng maraming tungkulin ay ang mga sumusunod:

● Nakatuon ang plasma: Ang solidong sic etching focus singsing ay tumutulong sa hugis at pag -isiping mabuti ang plasma sa paligid ng wafer, tinitiyak na ang proseso ng etching ay nangyayari nang pantay -pantay at mahusay. Tumutulong ito sa pag -confine ng plasma sa nais na lugar, na pumipigil sa naliligaw na etching o pinsala sa mga nakapalibot na rehiyon.

●  Pagprotekta sa mga dingding ng silid: Ang Focus Ring ay kumikilos bilang isang hadlang sa pagitan ng plasma at mga pader ng silid, na pumipigil sa direktang pakikipag -ugnay at potensyal na pinsala. Ang SIC ay lubos na lumalaban sa pagguho ng plasma at nagbibigay ng mahusay na proteksyon para sa mga dingding ng silid.

●  Tkontrol ng emperature: Nakakatulong ang sic focus ring sa pagpapanatili ng pare-parehong pamamahagi ng temperatura sa buong wafer sa panahon ng proseso ng pag-ukit. Nakakatulong ito sa pag-alis ng init at pinipigilan ang localized na overheating o thermal gradient na maaaring makaapekto sa mga resulta ng pag-ukit.

Ang Solid sic ay pinili para sa pagtuon ng mga singsing dahil sa natitirang thermal at kemikal na katatagan, mataas na lakas ng mekanikal, at paglaban sa pagguho ng plasma. Ang mga pag -aari na ito ay ginagawang angkop na materyal ang SIC para sa malupit at hinihingi na mga kondisyon sa loob ng mga sistema ng plasma etching.

Kapansin-pansin na ang disenyo at mga detalye ng mga nakatutok na singsing ay maaaring mag-iba depende sa partikular na plasma etching system at mga kinakailangan sa proseso. Ino-optimize ng VeTek Semiconductor ang hugis, mga dimensyon, at mga katangian sa ibabaw ng mga nakatutok na ring upang matiyak ang pinakamainam na pagganap ng pag-ukit at mahabang buhay. Ang Solid SiC ay malawakang ginagamit para sa mga wafer carrier, susceptor, dummy wafer, guide ring, mga bahagi para sa proseso ng pag-ukit, proseso ng CVD, atbp.