Ano ang porous grapayt? - Vetek Semiconductor

Ang porous na istraktura ng grapayt

Ang porous grapayt ay isang butas na istraktura ng istraktura na gawa sa grapayt bilang base material. Ang materyal nito ay gawa sa high-purity grapayt. Ang mga pisikal na mga parameter ng Vetek semiconductor porous grapayt ay nag -iiba ayon sa proseso ng paggawa at tiyak na aplikasyon. Ang mga sumusunod ay karaniwang mga pisikal na parameter:

Ang porous grapayt ay gawa sa high-purity grapayt at may mahusay na elektrikal na kondaktibiti, thermal conductivity, mataas na temperatura ng paglaban, paglaban ng oksihenasyon, katatagan ng kemikal at iba pang mga katangian. Malawakang ginagamit ito sa industriya ng pagproseso ng semiconductor.

Sa proseso ng pagproseso ng semiconductor, ang maliliit na grapayt ay malawakang ginagamit sa mga sumusunod na aspeto:

Pinagsama sa mahusay na mataas na temperatura ng paglaban ng temperatura at katatagan ng kemikal tulad ng mahusay na paglaban ng kaagnasan sa karamihan ng mga kemikal tulad ng mga acid, alkalis, at solvent, ang porous grapayt ay madalas na ginagamit sa high-temperatura na sintering at heat treatment na kagamitan. Halimbawa, ang porous grapayt ay maaaring magamit bilang isang lining, materyal na pagkakabukod o suportang materyal para sa mga hurno na may mataas na temperatura.

Bukod dito, ang porous na sangkap na grapayt ay may mahusay na elektrikal na kondaktibiti at katatagan ng thermal upang magbigay ng isang pantay na thermal field at matatag na mga de -koryenteng katangian. Samakatuwid, ang produktong ito ay madalas na ginagamit sapagsasabog o proseso ng oksihenasyonng pagproseso ng semiconductor bilang isang mapagkukunan ng pagsasabog o materyal na elektrod.

Ang porous grapayt na istraktura ay maaaring mag -filter at linisin ang mga gas na ginamit sa pagproseso ng semiconductor, bawasan ang posibleng kontaminasyon ng butil, at matiyak ang mataas na kalinisan sa panahon ng pagproseso. Sa pamamagitan ng porous na istraktura at mahusay na permeability ng hangin, ang mga porous na bahagi ng grapayt ay maaari ding magamit bilang isang base at kabit sa isang sistema ng adsorption ng vacuum upang ayusin ang mga wafer o iba pang mga sangkap sa pamamagitan ng mahusay na vacuum adsorption.

Sa pamamagitan ng pag -aayos ng proseso ng sintering ng grapayt, maaari ng Vetek semiconductoripasadya ang mga porous na grapayt na materyales na may iba't ibang laki ng pore at porosities upang matugunan ang iba't ibang mga kinakailangan sa aplikasyon.

                                                                                                  Porous grapayt                 Sic crystal growth porous grapayt           Three-petal Graphite Crucible

Sa katunayan, ang Vetek Semiconductor ay may isang ganap na nangungunang posisyon sa merkado sa sic coated grapayt na Susceptor market, TAC Coated Graphite Crucible Market at Silicon Carbide Coated Graphite Trays Market. Ang Vetek Semiconductor ay isang propesyonal na tagagawa ng Tsino, tagapagtustos, pabrika ng mga espesyal na produkto ng grapayt ， tulad ngSic crystal growth porous grapayt, Pyrolytic carbon coating, Vitreous carbon coating, Isotropic grapayt, Siliconized grapaytatMataas na kadalisayan graphite sheet. Kami ay nakatuon sa pagbibigay ng mga advanced na solusyon para sa iba't ibang mga espesyal na produkto ng grapayt para sa industriya ng semiconductor.

Kung mayroon kang anumang mga katanungan o nangangailangan ng karagdagang mga detalye, mangyaring huwag mag -atubiling makipag -ugnay sa amin.

Mob/WhatsApp: +86-180 6922 0752

Email: anny@veteksemi.com