Mataas na kadalisayan cvd sic hilaw na materyal

Deal semiconontorSic solong kristal na hilaw na materyal- Mataas na kadalisayan cvd sic hilaw na materyal. Pinupuno ng produktong ito ang domestic gap at nasa nangungunang antas din sa buong mundo, at magiging sa isang pangmatagalang nangungunang posisyon sa kumpetisyon. Ang tradisyunal na silikon na karbida na hilaw na materyales ay ginawa ng reaksyon ng mataas na kadalisayan na silikon atgrapayt, na mataas sa gastos, mababa sa kadalisayan at maliit sa laki. 

Ang teknolohiyang fluidized bed ng Vetek Semiconductor ay gumagamit ng methyltrichlorosilane upang makabuo ng silikon na karbida na hilaw na materyales sa pamamagitan ng pag-aalis ng singaw ng kemikal, at ang pangunahing by-product ay hydrochloric acid. Ang Hydrochloric acid ay maaaring makabuo ng mga asing -gamot sa pamamagitan ng pag -neutralize sa alkali, at hindi magiging sanhi ng anumang polusyon sa kapaligiran. Kasabay nito, ang methyltrichlorosilane ay isang malawak na ginagamit na pang -industriya na gas na may mababang gastos at malawak na mapagkukunan, lalo na ang China ang pangunahing tagagawa ng methyltrichlorosilane. Samakatuwid, ang mataas na kadalisayan ng vetek semiconductor ng CVD sic raw na materyal ay may internasyonal na nangungunang kompetisyon sa mga tuntunin ng gastos at kalidad.Ang kadalisayan ng mataas na kadalisayan cvd sic raw material ay mas mataas kaysa sa99.9995%.

Mga bentahe ng mataas na kadalisayan CVD sic raw na materyal

 ● Malaking sukat at mataas na density

Ang average na laki ng butil ay tungkol sa 4-10mm, at ang laki ng butil ng domestic acheson raw na materyales ay <2.5mm. Ang parehong dami ng crucible ay maaaring humawak ng higit sa 1.5kg ng mga hilaw na materyales, na naaayon sa paglutas ng problema ng hindi sapat na supply ng mga malalaking laki ng mga materyales na paglago ng kristal, na nagpapagaan sa graphitization ng mga hilaw na materyales, binabawasan ang pagbalot ng carbon at pagpapabuti ng kalidad ng kristal.

 ●Mababang ratio ng SI/C.

Ito ay mas malapit sa 1: 1 kaysa sa acheson raw na materyales ng pamamaraan ng pagpapalaganap ng sarili, na maaaring mabawasan ang mga depekto na sapilitan sa pamamagitan ng pagtaas ng Si bahagyang presyon.

 ●Mataas na halaga ng output

Ang mga lumago na hilaw na materyales ay nagpapanatili pa rin ng prototype, bawasan ang recrystallization, bawasan ang graphitization ng mga hilaw na materyales, bawasan ang mga depekto sa pambalot ng carbon, at pagbutihin ang kalidad ng mga kristal.

● Mas mataas na kadalisayan

Ang kadalisayan ng mga hilaw na materyales na ginawa ng pamamaraan ng CVD ay mas mataas kaysa sa acheson raw na materyales ng pamamaraan ng self-propagating. Ang nilalaman ng nitrogen ay umabot sa 0.09ppm nang walang karagdagang paglilinis. Ang hilaw na materyal na ito ay maaari ring maglaro ng isang mahalagang papel sa larangan ng semi-insulating.

● Mas mababang gastos

Ang pantay na rate ng pagsingaw ay nagpapadali sa proseso at kontrol ng kalidad ng produkto, habang pinapabuti ang rate ng paggamit ng mga hilaw na materyales (rate ng paggamit> 50%, 4.5kg raw na materyales ay gumagawa ng 3.5kg ingots), pagbabawas ng mga gastos.

 ●Mababang rate ng error sa tao

Ang pag -aalis ng singaw ng kemikal ay maiiwasan ang mga impurities na ipinakilala ng operasyon ng tao.

Vetek semiconductor mataas na kadalisayan cvd sic raw materyal na tindahan ng produkto: