Balita sa industriya

Ang mga high-purity na materyales ay mahalaga para sa paggawa ng semiconductor. Ang mga prosesong ito ay nagsasangkot ng matinding init at kinakaing unti-unting mga kemikal. Ang CVD-SiC (Chemical Vapor Deposition Silicon Carbide) ay nagbibigay ng kinakailangang katatagan at lakas. Isa na itong pangunahing pagpipilian para sa mga advanced na bahagi ng kagamitan dahil sa mataas na kadalisayan at density nito.

Sa mundo ng Silicon Carbide (SiC) semiconductors, karamihan sa mga spotlight ay kumikinang sa 8-pulgadang epitaxial reactor o sa mga sali-salimuot ng wafer polishing. Gayunpaman, kung susuriin natin ang supply chain pabalik sa pinakasimula—sa loob ng Physical Vapor Transport (PVT) furnace—isang pangunahing "rebolusyong materyal" ang tahimik na nagaganap.

Sa panahon ng mabilis na ebolusyon ng MEMS (Micro-Electromechanical Systems), ang pagpili ng tamang piezoelectric na materyal ay isang make-or-break na desisyon para sa performance ng device. PZT (Lead Zirconate Titanate) thin-film wafers ang lumabas bilang pangunahing pagpipilian kaysa sa mga alternatibo tulad ng AlN (Aluminum Nitride), na nag-aalok ng mahusay na electromechanical coupling para sa mga cutting-edge na sensor at actuator.