High Purity Quartz Etch Ring

1.Mga Pangunahing Tampok at Kalamangan

• Semiconductor-grade dehydroxylated fused quartz na may SiO₂ ≥ 99.999% at mahigpit na kinokontrol na mga metal na dumi

• Matatag na tuluy-tuloy na operasyon hanggang sa 1100 °C, na may panandaliang kakayahan malapit sa 1200 °C

• Malakas na pagtutol sa fluorine- at chlorine-based etch chemistries at high-energy plasma exposure

• Mababang pagpapalawak ng thermal at mahusay na pagganap ng thermal-shock sa ilalim ng paulit-ulit na mga siklo ng temperatura ng silid

• Mababang vacuum outgassing upang protektahan ang presyon ng base ng silid at iproseso ang komposisyon ng gas

• Micron-level na dimensional na kontrol na may pinakintab na contact surface para sa pare-parehong chamber fit at plasma boundary definition

• Mga nako-configure na disenyo: mga flat ring, stepped etch ring, locating/retaining ring, at ganap na custom na profile para sa mga pangunahing platform ng etch tool

2.Mga Karaniwang Aplikasyon

Ang High Purity Quartz Etch Rings ay ginagamit sa dry plasma etch process chambers para sa:

• Mga hakbang sa pag-ukit ng plasma ng logic at memory device

• SiC at GaN power-device etch na mga proseso

• High-aspect-ratio structure etch

• Optical at compound-semiconductor substrate pagpoproseso ng plasma

• Advanced na packaging plasma etch at mga kaugnay na hakbang sa paglilinis

• RIE / ICP laboratoryo at production etch tools

3.Mga Pangunahing Teknikal na Parameter

• Material: semiconductor-grade dehydroxylated fused quartz, SiO₂ ≥ 99.999%

• Pagkatugma ng wafer: 2 / 4 / 6 / 8 / 12 pulgada na silicon, SiC, GaN, at sapphire

• Temperatura ng pagpapatakbo: −20 °C hanggang 1100 °C tuloy-tuloy; panandaliang peak humigit-kumulang 1200 °C

• Pangunahing function: plasma edge confinement, gas-flow guidance, edge protection, at chamber isolation

• Kalidad ng machining: mga tolerance sa antas ng micron, pinakintab na ibabaw, kinokontrol na mga gilid, at malinis na pagtatapos

• Mga opsyon sa istruktura: flat ring, stepped etch ring, locating/retaining ring, at custom na geometries

• Pag-customize: panlabas/panloob na diameter, kapal, taas ng hakbang, mga feature sa paghahanap, chamfer, at mga detalye ng interface sa bawat drawing

4.Bakit Pumili ng VeTek High Purity Quartz Etch Rings?

Ang VeTek Semiconductor ay nagsu-supply ng process-critical quartz hardware para sa etch at thermal tool. Para sa mga etch ring, ang focus ay nasa:

• Ang kadalisayan ng materyal at kalinisan sa ibabaw ay angkop sa mga advanced na dry-etch na kapaligiran

• Katumpakan ng dimensyon na sumusuporta sa matatag na kontrol sa hangganan ng plasma at nauulit na pagkakasya sa silid

• Ang kakayahang umangkop sa disenyo para sa pagpapalit ng istilong OEM at ganap na custom na mga interface ng silid

• Isang kumpletong hanay ng bahagi ng quartz na kinabibilangan din ng mga wafer carrier, furnace tube, bangka, at mga kaugnay na bahagi ng proseso

Sa pamamagitan ng pagsasama-sama ng mataas na kadalisayan, tibay ng plasma, at mahigpit na kontrol sa geometry, nakakatulong ang VeTek High Purity Quartz Etch Rings na pahusayin ang pagkakapareho ng cross-wafer etch, bawasan ang mga depektong nauugnay sa gilid, at sinusuportahan ang mas mahaba, mas matatag na mga cycle ng produksyon sa mga dry plasma etch tool.