SIC Coated Support Ring

Ito semiconductor, isang nangungunang tagagawa at supplier na nakabase sa China, ay dalubhasa sa paggawa ng hanay ng mga produkto kabilang angSIC Coated Support Rings, CVD silicon carbide coatings, tantalum carbide coating, bulk SiC, SiC powder, at high-purity na SiC na materyales. Ang aming dedikasyon ay nakasalalay sa pag-aalok ng komprehensibong teknikal na tulong at pinakamainam na mga resolusyon ng produkto na iniayon para sa sektor ng semiconductor. Huwag mag-atubiling makipag-ugnayan sa amin para sa karagdagang impormasyon at tulong.

Ito semiconductor'sSIC Coated Support Ringsay isang bagong henerasyon ng mga materyales na lumalaban sa mataas na temperatura. Bilang corrosion resistant coating, oxidation resistant coating, at wear resistant coating, magagamit ang mga ito sa mga environment na mas mataas sa 1650℃, at malawakang ginagamit sa  mga semiconductor field.

Ang mataas na kalidad na mga katangian ngSIC Coated Support Ringsay gumaganap ng isang napakahalagang papel sa epitaxial na paglago ng mga third-generation na bahagi ng semiconductor.

Pagpapanatili ng pagkakapareho ng temperatura: Ang SiC coated support ring ay may mahusay na thermal conductivity at maaaring magbigay ng pare-parehong pamamahagi ng temperatura sa panahon ng epitaxial growth. Nakakatulong ito na bawasan ang mga thermal gradient at stress sa ibabaw ng wafer, at sa gayon ay pagpapabuti ng kalidad ng epitaxial layer.

Matinding katatagan ng kemikal: Sa panahon ng proseso ng paglago ng epitaxial,SIC Coated Support Ringsay maaaring pigilan ang pag -atake ng kemikal mula sa mga reaksyon ng gas, na nagpapalawak ng buhay ng mga singsing ng suporta at pagpapanatili ng integridad ng proseso. Ang katatagan ng kemikal na ito ay nakakatulong na mabawasan ang panganib ng kontaminasyon at pagbutihin ang kadalisayan at pagganap ng mga aparato ng semiconductor.

Tumpak na pagpoposisyon: SIC coated support singsing ay maaaring mapanatili ang tumpak na pagpoposisyon ng wafer, na kritikal sa pagkamit ng pantay na pag -aalis ng layer. Ang tumpak na pagpoposisyon na ito ay nakakatulong na matiyak ang pagkakapareho ng kapal at kalidad ng epitaxial layer.

Mga pangunahing pisikal na katangian ng CVD SiC coating:

Tindahan ng Produksyon ng Ito semiconductor:

Pangkalahatang -ideya ng Semiconductor Chip Epitaxy Industry Chain: