SiC Coated Epi Receptor

Maaari kang matiyak na bumili ng SIC coated EPI Susceptor mula sa aming pabrika.

Ang VeTek Semiconductor SiC Coated Epi Susceptor ay Epitaxial barrel ay isang espesyal na tool para sa semiconductor epitaxial growth process na may maraming mga pakinabang:

● Mahusay na kapasidad ng produksyon: Ang Vetek Semiconductor's SIC Coated EPI Susceptor ay maaaring mapaunlakan ang maraming mga wafer, na ginagawang posible upang maisagawa ang epitaxial na paglago ng maraming mga wafer nang sabay -sabay. Ang mahusay na kapasidad ng produksyon ay maaaring mapabuti ang kahusayan ng produksyon at mabawasan ang mga siklo ng produksyon at gastos.

● Naka-optimize na kontrol sa temperatura: Ang SIC Coated EPI Susceptor ay nilagyan ng isang advanced na sistema ng control control upang tumpak na makontrol at mapanatili ang nais na temperatura ng paglago. Ang matatag na kontrol sa temperatura ay tumutulong upang makamit ang pantay na paglaki ng epitaxial layer at pagbutihin ang kalidad at pagkakapare -pareho ng epitaxial layer.

● Unipormeng pamamahagi ng kapaligiran: Ang SIC Coated EPI Susceptor ay nagbibigay ng isang pantay na pamamahagi ng kapaligiran sa panahon ng paglaki, tinitiyak na ang bawat wafer ay nakalantad sa parehong mga kondisyon ng kapaligiran. Makakatulong ito na maiwasan ang mga pagkakaiba sa paglaki sa pagitan ng mga wafer at nagpapabuti sa pagkakapareho ng epitaxial layer.

● Epektibong kontrol sa kawalang -kilos: Nakakatulong ang disenyo ng SiC Coated Epi Susceptor na bawasan ang pagpapakilala at pagsasabog ng mga dumi. Maaari itong magbigay ng mahusay na sealing at kontrol sa kapaligiran, bawasan ang epekto ng mga impurities sa kalidad ng epitaxial layer, at sa gayon ay mapabuti ang pagganap at pagiging maaasahan ng device.

● Flexible na proseso ng pagbuo: Ang Epi Susceptor ay may kakayahang umangkop sa pagbuo ng proseso na nagbibigay-daan sa mabilis na pagsasaayos at pag-optimize ng mga parameter ng paglago. Nagbibigay-daan ito sa mga mananaliksik at inhinyero na magsagawa ng mabilis na pag-unlad ng proseso at pag-optimize upang matugunan ang mga pangangailangan ng epitaxial growth ng iba't ibang mga aplikasyon at kinakailangan.