Mga produkto

Ang Vetek's CVD sic coating baffle ay pangunahing ginagamit sa SI epitaxy. Karaniwan itong ginagamit gamit ang mga barrels ng extension ng silikon. Pinagsasama nito ang natatanging mataas na temperatura at katatagan ng CVD sic coating baffle, na lubos na nagpapabuti sa pantay na pamamahagi ng daloy ng hangin sa pagmamanupaktura ng semiconductor. Naniniwala kami na ang aming mga produkto ay maaaring magdala sa iyo ng advanced na teknolohiya at de-kalidad na mga solusyon sa produkto.

Ang Vetek Semiconductor's CVD SIC Graphite Cylinder ay pivotal sa semiconductor na kagamitan, na nagsisilbing isang proteksiyon na kalasag sa loob ng mga reaktor upang mapangalagaan ang mga panloob na sangkap sa mga setting ng mataas na temperatura at presyon. Ito ay epektibong nagpoprotekta laban sa mga kemikal at matinding init, pinapanatili ang integridad ng kagamitan. Sa pambihirang pagsusuot at kaagnasan na pagtutol, tinitiyak nito ang kahabaan ng buhay at katatagan sa mapaghamong mga kapaligiran. Ang paggamit ng mga sumasaklaw na ito ay nagpapaganda ng pagganap ng aparato ng semiconductor, nagpapatagal ng habang -buhay, at nagpapagaan ng mga kinakailangan sa pagpapanatili at mga panganib sa pinsala.Welcome sa pagtatanong sa amin.

Ang CVD SiC Coating Nozzles ay mga mahalagang bahagi na ginagamit sa proseso ng LPE SiC epitaxy para sa pagdedeposito ng mga materyales ng silicon carbide sa panahon ng paggawa ng semiconductor. Ang mga nozzle na ito ay karaniwang gawa sa mataas na temperatura at chemically stable na silicon carbide na materyal upang matiyak ang katatagan sa malupit na kapaligiran sa pagpoproseso. Dinisenyo para sa pare-parehong deposition, gumaganap sila ng mahalagang papel sa pagkontrol sa kalidad at pagkakapareho ng mga epitaxial layer na lumago sa mga semiconductor application. Maligayang pagdating sa iyong karagdagang pagtatanong.

Ang Vetek Semiconductor's CVD sic coating protector na ginamit ay lpe sic epitaxy, ang salitang "LPE" ay karaniwang tumutukoy sa mababang presyon ng epitaxy (LPE) sa mababang presyon ng singaw ng singaw ng kemikal (LPCVD). Sa pagmamanupaktura ng semiconductor, ang LPE ay isang mahalagang teknolohiya ng proseso para sa paglaki ng solong kristal na manipis na pelikula, na madalas na ginagamit upang mapalago ang mga layer ng epitaxial na silikon o iba pang mga semiconductor epitaxial layer.pls walang pag -aalangan na makipag -ugnay sa amin para sa higit pang mga katanungan.

Ang Vetek Semiconductor ay propesyonal sa paggawa ng CVD SiC coating, TaC coating sa graphite at silicon carbide material. Nagbibigay kami ng mga produktong OEM at ODM tulad ng SiC Coated Pedestal, wafer carrier, wafer chuck, wafer carrier tray, planetary disk at iba pa. Gamit ang 1000 grade clean room at purification device, maaari kaming magbigay sa iyo ng mga produktong may karumihan na mas mababa sa 5ppm. Inaasahan ang pagdinig mula sa iyo sa lalong madaling panahon.

Ang Vetek Semiconductor ay mahusay sa pakikipagtulungan nang malapit sa mga kliyente upang gumawa ng mga pasadyang disenyo para sa SiC Coating Inlet Ring na iniayon sa mga partikular na pangangailangan. Ang SiC Coating Inlet Ring na ito ay meticulously engineered para sa magkakaibang mga application tulad ng CVD SiC equipment at Silicon carbide epitaxy. Para sa mga pinasadyang solusyon sa SiC Coating Inlet Ring, huwag mag-atubiling makipag-ugnayan sa Vetek Semiconductor para sa personalized na tulong.