CVD Tantalum Carbide(TaC) Coated Susceptor

Mga Pangunahing Tampok

Mga aplikasyon

Kasama sa mga karaniwang application ang:

• SiC Epitaxial Growth

• GaN MOCVD Epitaxy

• AlN Epitaxial Growth

• Third-Generation Semiconductor Manufacturing

• High-Power Electronics

• Mga RF Device

• Produksyon ng MicroLED

• Research at Pilot Production System

Katugmang Kagamitan

Kasama sa mga katugmang platform ang:

• Aixtron

• LPE

• Veeco

• AMEC

• NuFlare

• Mga Custom na CVD at MOCVD Reactor

Available din:

• Mga Wafer Carrier

• Mga Planetary Susceptor

• Mga Susceptor ng Barrel

• Mga Rotation Disk

• Mga Bahagi ng Half-Moon

• Mga Cover Plate

• Graphite Assemblies

• Mga Custom na Thermal Field na Bahagi

Teknikal na Pagtutukoy

Mga Madalas Itanong

1. Ano ang CVD TaC Coated Susceptor?

Isang high-purity graphite component na pinoprotektahan ng isang siksik na CVD TaC coating na ginamit bilang wafer carrier sa panahon ng epitaxial growth.

2. Bakit gumamit ng TaC coating sa halip na SiC coating?

Nag-aalok ang TaC ng mas mataas na paglaban sa temperatura, mahusay na katatagan ng kemikal, at mas mahabang buhay ng serbisyo.

3.Aling mga proseso ng semiconductor ang gumagamit ng TaC-coated susceptors?

SiC epitaxy, GaN MOCVD, AlN epitaxy, at iba pang proseso ng paglaki ng kristal na may mataas na temperatura.

4. Maaari bang gumawa ang VETEK ng mga customized na susceptor?

Oo. Nagbibigay kami ng mga customized na disenyo batay sa mga drawing ng customer at mga kinakailangan sa proseso.

5. Aling mga reactor brand ang sinusuportahan?

Aixtron, LPE, Veeco, AMEC, NuFlare, at iba pang mga pangunahing sistema.