SiN substrate

Ang VeTek Semiconductor SiN substrate ay isang advancedmateryal na seramikna nakakaakit ng malawakang atensyon para sa mahusay nitong mekanikal, elektrikal at thermal na mga katangian. Ang ceramic na itosubstrateay gawa sa mga atomo ng silikon at nitrogen na pinagdugtong sa pamamagitan ng isang partikular na istrukturang kristal, na nagpapakita ng natatanging lakas, tibay at paglaban sa init. Ang mga substrate ng SiN ay kailangang-kailangan sa mga application na may mataas na pagganap tulad ng mga semiconductor device, at ang kanilang mga katangian ay makabuluhang nagpapabuti sa kahusayan at pagiging maaasahan ng mga integrated circuit (ICs), sensor, atmicroelectromechanical system (MEMS).

Mga tampok ng produkto ng SUN：

Napakahusay na thermal conductivity: Ang thermal management ay may mahalagang papel sa pagganap ng mga semiconductor device. Ang thermal conductivity ng SiN ceramic plate ay kasing taas ng 130 W/m·K, na maaaring epektibong mag-alis ng init mula sa mga elektronikong bahagi at maiwasan ang overheating, at sa gayon ay magpapahaba ng buhay ng serbisyo ng kagamitan.

Katatagan ng kemikal at paglaban sa kaagnasan: Ang Silicon Nitride ay nagpapakita ng napakalakas na pagtutol sa kaagnasan ng kemikal at partikular na angkop para magamit sa mga kapaligiran na nakalantad sa mga kemikal o matinding temperatura. Kahit na sa mga kapaligiran na may mga kinakaing unti-unting gas, acid at alkalis, pinapanatili ng mga substrate ng SIN ang kanilang integridad sa istruktura, tinitiyak ang pangmatagalang pagiging maaasahan sa mga pang-industriya na aplikasyon.

Mataas na paglaban sa thermal shock: Ang mga substrate ng SiN ay maaaring makatiis ng mabilis na pagbabago ng temperatura hanggang sa 1200°C nang walang thermal shock o crack. Ang property na ito ay kritikal sa mga lugar gaya ng power electronics at high-temperature sensor, na kadalasang hinahamon ng biglaang pagbabago ng temperatura.

Mataas na lakas at tigas: Kumpara sa iba pang mga ceramic material, ang compressive lakas ngSin Ceramic substrateMaaaring umabot sa 600 MPa, na nagpapakita ng mahusay na katigasan. Pinapayagan nito na epektibong pigilan ang pag-crack at mapanatili ang integridad ng istruktura sa high-stress at mga proseso na naproseso ng semiconductor, tinitiyak ang katatagan ng mekanikal.

Pangkalahatang-ideya ng paggawa ng silicon/silicon-nitride (Si/SiN) TEM

Ang VeTek Semiconductor Silicon Nitride (SiN) substrate ay naging pangunahing materyal sa industriya ng semiconductor at iba pang larangan dahil sa mahusay na mga katangian ng produkto nito. Lalo na sa larangan ng mga aparatong semiconductor, MEMS, optoelectronics at power electronics, ang mga substrate ng SiN ay nagtutulak sa pag-unlad ng hinaharap na elektronikong teknolohiya na mahalagang pundasyon.

Watersemi Mga Tindahan ng Produkto ng SiN Substrate: