Tube ng Quartz Furnace para sa Diffusion Furnace

1. Mga Pangunahing Tampok at Kalamangan

• Ultra-high purity dehydroxylated fused quartz (SiO₂ ≥ 99.999%) na may mga metal na impurities na kinokontrol sa ppb level at napakababang hydroxyl content

• Pangmatagalang temperatura ng pagpapatakbo hanggang sa 1100 °C; panandaliang peak resistance sa 1200 °C

• Napakahusay na thermal shock resistance pagkatapos ng buong stress-relief annealing—lumalaban sa pag-crack sa ilalim ng mabilis na pagbabago ng temperatura

• Natitirang chemical inertness laban sa oxidizing, reducing, at halogen-containing process gases; angkop para sa plasma at kinakaing unti-unti na mga kapaligiran

• Napakababa ng vacuum outgassing; ang makinis na panloob na dingding ay nagpapaliit ng byproduct buildup at sumusuporta sa pag-uulit ng proseso

• One-piece forming na may pare-parehong kapal ng pader, mataas na coaxiality, at precision-finished na mga dulo para sa maaasahang sealing

• Nako-customize na mga istraktura: mga tuwid na tubo, mga reducer na tubo, mga flanged na tubo, pinahabang haba, at mga espesyal na pagsasaayos ng dulo para sa mga patayo o pahalang na furnace

2. Mga Karaniwang Aplikasyon

Ang VeTek quartz furnace tubes ay malawakang ginagamit bilang core reaction chamber sa:

• Thermal oxidation furnace (dry/wet oxidation)

• Mga diffusion furnace para sa pagpapakilala ng dopant (B, P, As, atbp.)

• LPCVD system para sa thin-film deposition

• Vacuum annealing at iba pang mga proseso ng paggamot sa init na may mataas na temperatura

• Tugma sa 4-inch, 6-inch, 8-inch, at 12-inch na wafer platform (Si, SiC, GaN, sapphire substrates)

Sinusuportahan nila ang logic, memory, power device, MCU, LED, MEMS, at wide-bandgap semiconductor na mga linya ng pagmamanupaktura na nangangailangan ng stable na pagkakapareho ng temperatura, kontrol sa daloy ng gas, at ultra-clean na mga kapaligiran sa proseso.

3. Mga Pangunahing Teknikal na Parameter

• Materyal: Semiconductor-grade dehydroxylated fused quartz (SiO₂ ≥ 99.999%), mababang hydroxyl, mababang metal na dumi

• Pagkatugma ng wafer: 4 / 6 / 8 / 12 pulgada

• Pangmatagalang temperatura ng pagtatrabaho: −20 °C hanggang 1100 °C; panandaliang peak hanggang 1200 °C

• Proseso: One-piece thermal forming, wall homogenization, end finishing, stress-relief annealing, helium leak test, ultra-clean cleaning

• Mga available na istruktura: Straight tube, reducer tube, flanged tube, extended / custom-length na tube, mga espesyal na configuration

• Pag-customize: Inner/outer diameter, haba, kapal ng pader, flange specs, at mga espesyal na geometry sa bawat drawing ng customer

4. Bakit Pumili ng VeTek Quartz Furnace Tubes?

Bilang isang propesyonal na tagagawa ng mga bahagi ng semiconductor quartz, nag-aalok ang VeTek Semiconductor ng:

• Mga high-purity na quartz furnace tube na inengineered para sa oxidation, diffusion, LPCVD, at annealing equipment

• Mahigpit na kontrol sa kadalisayan, katumpakan ng dimensyon, at kalinisan na angkop para sa produksyon ng Class 10 / Class 100 na cleanroom

• Buong pag-customize at OEM-compatible na mga disenyo para sa vertical at horizontal tube furnace

• Mga komplementaryong produktong semiconductor quartz kabilang ang mga wafer boat, crucibles, liner, at iba pang bahagi ng proseso

Ang aming mga quartz furnace tube ay nakakatulong na mapanatili ang matatag na mga kondisyon ng thermal at gas-flow, mabawasan ang kontaminasyon ng particle at metal, at pahabain ang buhay ng serbisyo sa ilalim ng tuluy-tuloy na pagbibisikleta na may mataas na temperatura—na sumusuporta sa mas mataas na ani at mas mababang halaga ng pagmamay-ari sa semiconductor thermal processing.