Aluminum Nitride (AlN) Ceramic Electrostatic Chuck

1.Mga kalamangan

• High-purity AlN ceramic na may thermal conductivity hanggang ~180 W/m·K para sa mahusay na paglipat ng init at pagkakapareho ng temperatura

• Malakas na pagkakabukod ng kuryente at mataas na volume na resistivity na sumusuporta sa stable clamping sa 1–3 kV (mas mataas na boltahe na available)

• Custom na dielectric layer na materyales at electrode layout: Coulomb o Johnsen–Rahbek (JR); single o multi-zone

• Mabilis na pagganap ng clamp at de-clamp, karaniwang wala pang 0.1 segundo

• Mga microstructure sa ibabaw ng dimple hanggang ~300 μm diameter, binabawasan ang contact area hanggang sa ~1%

• Mataas na kakayahan sa flatness; tipikal na global flatness sa pagkakasunud-sunod ng 0.5–3 μm PV para sa 300 mm class platform

• Siksik na microstructure na may malapit sa zero na pagsipsip ng tubig at magandang paglaban sa kemikal para sa mga kapaligiran ng proseso

2.Mga Karaniwang Aplikasyon

Ang Aluminum Nitride Ceramic Electrostatic Chucks ay ginagamit sa proseso ng mga hakbang na nangangailangan ng parehong secure na wafer holding at kinokontrol na thermal behavior:

• Dry plasma etch (ICP / RIE) at mga kaugnay na proseso ng chamber

• CVD, PEALD, thermal ALD, at iba pang mga yugto ng thin-film deposition

• Mga module ng pagsusubo at thermal process na nangangailangan ng pare-parehong temperatura ng wafer

• Mga yugto ng inspeksyon, metrology, at katumpakan kung saan kritikal ang mababang particle at stable na clamping

3.Mga Marka ng Materyal ng AlN – Mga Karaniwang Katangian

Nag-aalok ang VeTek ng maraming grado ng Aluminum Nitride para balansehin ang thermal conductivity, lakas ng makina, at gastos para sa mga disenyo ng ESC:

Mga Yunit: Thermal conductivity sa W/(m·K); lakas ng dielectric sa kV / mm; resistivity ng volume sa Ω·cm (25 °C); dielectric na pare-pareho sa 1 MHz. Karaniwan ang mga halaga at maaaring mag-iba sa proseso at bahaging geometry.

4.Mga Karaniwang Parameter ng Disenyo ng ESC

5.Bakit Choose VeTek AlN Electrostatic Chucks?

Pinagsasama ng VeTek Semiconductor ang mga advanced na AlN ceramics na may katumpakan na pagmamanupaktura ng ESC para sa mga customer ng semiconductor na nangangailangan ng parehong thermal performance at maaasahang clamping:

• Maramihang mga marka ng AlN na may thermal conductivity mula ~90 hanggang ~180 W/m·K upang tumugma sa mga thermal budget ng proseso

• Flexible na electrode at dielectric na disenyo para sa Coulomb o JR clamping behavior

• Mahigpit na kontrol ng flatness, surface microstructure, at electrical insulation performance

• Buong suporta sa lifecycle: disenyo, bagong build, at multi-level na refurbishment

Para sa etch, deposition, at thermal tool na umaasa sa pare-parehong temperatura ng wafer at malinis, paulit-ulit na pag-clamping, ang VeTek Aluminum Nitride Ceramic Electrostatic Chucks ay nagbibigay ng isang high-performance na ceramic platform na sinusuportahan ng suporta sa engineering na nakatuon sa aplikasyon.