Wafer Carrier para sa VEECO MOCVD (LED Epitaxy)

Mga Tampok ng Produkto:

1. High-purity graphite base na may siksik na CVD SiC layer
2. Magandang pagkakapareho ng thermal para sa matatag na LED epitaxy
3. Lumalaban sa NH₃, HCl, at iba pang mga kinakaing gas na ginamit sa proseso
4. Mababang pagbubuhos ng butil at mahabang buhay ng serbisyo
5. Maaaring i-customize ang mga disenyo ng bulsa para sa iba't ibang laki ng wafer at platform ng reactor
6. Gumagana nang maayos para sa pangmatagalan, mataas na temperatura na operasyon ng MOCVD

Mga Application:
Ang mga wafer carrier na ito ay malawakang ginagamit sa LED at compound semiconductor epitaxy, kabilang ang:

• GaN LED epitaxy
• Asul-berde na LED epitaxy
• Malalim na paglaki ng UV LED
• Si-based na GaN epitaxy
• Pangkalahatang compound semiconductor manufacturing

Ang mga custom na solusyon sa carrier ay umaangkop sa maraming LED MOCVD platform, gaya ng:

• VEECO K465i
• VEECO K700
• VEECO K868
• Aixtron G4/G5
• A7/Unimax

Mga Kalamangan sa Teknikal:

1. Patong ng CVD SiCteknolohiya na nagbibigay sa iyo ng magandang density at kadalisayan
2. Ang pagkakaiba-iba ng kapal ng coating na hawak sa loob ng ±10 μm – tumutulong sa thermal performance na manatiling matatag
3. CNC machining pababa sa 3 μm precision para sa magandang wafer fit at rotation stability
4. Ang coating ay dumidikit at lumalaban sa pag-crack pagkatapos ng paulit-ulit na mataas na temperatura na MOCVD cycle
5. Pinangangasiwaan ang NH₃, HCl, at iba pang malupit na kapaligiran ng epitaxy nang walang problema
6. Mababang pagbuo ng butil at malinis na ibabaw upang suportahan ang mataas na aniLED epitaxy
7. Maaaring mag-coat ng malaki o custom na laki para sa iba't ibang reactor platform at wafer layout
8. Mahabang karanasan sapasadyang grapayt at mga bahaging pinahiran ng SiCpara sa LED at compound semiconductor epitaxy

FAQ:
1. Ano ang ginagawa ng wafer carrierMOCVDLED epitaxy?

A: Ito ay humahawak at nagpapaikot ng mga wafer sa loob ng MOCVD reactor, at tumutulong na panatilihing matatag ang temperatura sa panahon ng paglaki ng epitaxial.

2. Bakit gumagamit ng SiC-coated graphite wafer carriers para sa MOCVD?

A: AngPatong ng CVD SiCnagbibigay ng mas mahusay na paglaban sa kaagnasan, thermal stability, at tibay. Nakakatulong din itong mabawasan ang kontaminasyon ng particle sa high-temperature epitaxy.

3. Gumagawa ba ang Vetek Semiconductor ng mga custom na wafer carrier?
A: Oo. Maaari kaming magdisenyo ng mga custom na carrier batay sa iyong platform ng reactor, laki ng wafer, layout ng bulsa, at iba pang mga pangangailangan sa proseso.