Silicon carbide epitaxy wafer carrier

Bilang propesyonal na tagagawa, nais naming magbigay sa iyo ng mataas na kalidad na carbide na epitaxy wafer carrier. Ang Vetek Semiconductor Silicon Carbide Epitaxy Wafer Carriers ay partikular na idinisenyo para sa SIC epitaxial chamber. Mayroon silang isang malawak na hanay ng mga aplikasyon at katugma sa iba't ibang mga modelo ng kagamitan.

Eksena ng Application:

Pagmamay -ariAng K semiconductor silikon carbide epitaxy wafer carriers ay pangunahing ginagamit sa proseso ng paglago ng SIC epitaxial layer. Ang mga accessory na ito ay inilalagay sa loob ng SIC epitaxy reaktor, kung saan nakarating sila sa direktang pakikipag -ugnay sa mga substrate ng SIC. Ang mga kritikal na mga parameter para sa mga epitaxial layer ay kapal at doping na pagkakapareho ng konsentrasyon. Samakatuwid, sinusuri namin ang pagganap at pagiging tugma ng aming mga accessories sa pamamagitan ng pag -obserba ng data tulad ng kapal ng pelikula, konsentrasyon ng carrier, pagkakapareho, at pagkamagaspang sa ibabaw.

Paggamit:

Depende sa kagamitan at proseso, ang aming mga produkto ay maaaring makamit ng hindi bababa sa 5000 um ng epitaxial layer kapal sa isang 6-pulgadang kalahating buwan na pagsasaayos. Ang halagang ito ay nagsisilbing isang sanggunian, at ang aktwal na mga resulta ay maaaring magkakaiba.

Mga katugmang modelo ng kagamitan:

Ang Vetek Semiconductor Silicon Carbide Coated Graphite Parts ay katugma sa iba't ibang mga modelo ng kagamitan, kabilang ang LPE, Naura, JSG, CETC, Naso Tech, at iba pa.

Pangunahing pisikal na katangian ngCVD sic coating:

Paghambingin ang Semiconductor Production Shop ：

Pangkalahatang -ideya ng Semiconductor Chip Epitaxy Industry Chain: