Porous grapayt na may pinahiran na TAC

Ang Veteksemicon ay tagagawa ng Tsina at tagapagtustos na pangunahing gumagawaPorous grapaytna may TAC na pinahiran ng maraming taon ng karanasan. Inaasahan kong bumuo ng relasyon sa negosyo sa iyo.

Inilunsad ng Veteksemicon ang isang rebolusyonaryong semiconductor manufacturing material na tinatawag na porous grapayt na may tac coated material, isang kumbinasyon ng porous grapayt atTantalum Carbide (TAC) Coating. Ang materyal na ito ay nag -aalok ng natitirang pagkamatagusin at mataas na porosity, na umaabot sa isang maximum na industriya ng record na 75%. Ang mataas na kadalisayan ng TAC coating ay hindi lamang nagpapabuti ng kaagnasan at paglaban ng pagsusuot ngunit nagbibigay din ng karagdagang proteksiyon na layer, na epektibong pagtugon sa mga hamon sa pagproseso at kaagnasan.

Ang hindi wastong paggamit ng mga materyales na may crucible tulad ng grapayt, porous grapayt, at tantalum carbide powder sa mga high-temperatura na kapaligiran ay maaaring humantong sa mga depekto tulad ng pagtaas ng pagsasama ng carbon. Minsan, ang pagkamatagusin ng porous grapayt ay maaaring hindi sapat, na nangangailangan ng karagdagang mga butas para sa pinabuting pagkamatagusin. Ang maliliit na grapayt na may mataas na pagkamatagusin ay nahaharap sa pagproseso, pag -alis ng pulbos, at mga hamon sa etching.

Ipinakikilala ng Veteksemicon ang isang nobelang SIC Crystal Growing Thermal Field Material, Porous Graphite na may Tantalum Carbide Coating. Ang Tantalum carbide ay kilala para sa mataas na lakas at tigas nito, ngunit ang paglikha ng porous tantalum carbide na may malaking porosity at mataas na kadalisayan ay isang malaking hamon. Ang Vetek Semiconductor ay may makabagong binuo porous tantalum carbide na may maximum na porosity na umaabot sa 75%, na nagtatakda ng mga bagong pamantayan sa industriya.

Ang paggamit ng TAC-coated porous grapayt ay maaaring makabuluhang mapabuti ang kahusayan at kalidad ng proseso ng pagmamanupaktura ng semiconductor. Tinitiyak ng mahusay na pagkamatagusin nito ang katatagan ng materyal sa ilalim ng mataas na mga kondisyon ng temperatura at epektibong kinokontrol ang pagtaas ng mga impurities ng carbon. Kasabay nito, ang mataas na disenyo ng porosity ay nagbibigay ng mas mahusay na pagganap ng pagsasabog ng gas upang makatulong na mapanatili ang isang purong kapaligiran sa paglago.

Kami ay nakatuon sa pagbibigay ng mga customer ng mahusay na porous grapaytPinahiran ng TACmga materyales upang matugunan ang mga pangangailangan ng industriya ng pagmamanupaktura ng semiconductor. Kung sa mga laboratoryo ng pananaliksik o paggawa ng pang -industriya, ang advanced na materyal na ito ay makakatulong sa iyo na makamit ang mahusay na pagganap at pagiging maaasahan. Makipag -ugnay sa amin ngayon upang malaman ang higit pa tungkol sa rebolusyonaryong materyal na ito at simulan ang iyong paglalakbay ng pagbabago upang himukin ang pagmamanupaktura ng semiconductor.

Vetek semiconductor porous grapayt na may pinahiran na produksyon ng TAC Mamili