Ald ang superyor

Bilang isang propesyonalAld ang superyorTagagawa sa Tsina, ang aming produktoAld ang superyorAng tumpak na kontrol sa temperatura, unipormeng pamamahagi ng gas at mahusay na thermal conductivity at iba pang mga katangian ng produkto ay tumutukoy naAld ang superyorgumaganap ng isang mahalagang papel sa proseso ng pag -aalis ng layer ng atomic (ALD). Mahalagang papel, maligayang pagdating sa iyong konsultasyon.

Uniform manipis na pag -aalis ng pelikula: Tinitiyak ng ALD na Susceptor ang pantay na pag -aalis ng mga layer ng atomic sa buong ibabaw ng wafer sa panahon ng proseso ng pag -aalis ng atomic layer (ALD). Ang natatanging disenyo nito ay nagbibigay -daan sa mga gas at reaksyon na pantay -pantay na makipag -ugnay sa wafer na ibabaw, na nagreresulta sa pantay na kapal ng pelikula. Ito ay kritikal para sa pagmamanupaktura ng high-precision semiconductor.

Pagbutihin ang kalidad ng pag -aalis: Sa pamamagitan ng pag-optimize ng kontrol sa temperatura at pamamahagi ng gas, ang ALD na Susceptor ay makabuluhang nagpapabuti sa kalidad at pagganap ng pelikula, pagbabawas ng mga depekto at hindi pagkakapareho. Ginagawa nitong mainam para sa high-precision semiconductor at electronic device manufacturing, tinitiyak ang pagiging maaasahan ng produkto at pagganap.

Sinusuportahan ang pagproseso ng multi-wafer: Ang ilang mga disenyo ng ALD na Susceptor ay nagbibigay -daan sa maraming mga wafer na maproseso nang sabay -sabay, pagtaas ng kahusayan sa produksyon. Mahalaga ito lalo na para sa mga kapaligiran sa pagmamanupaktura ng high-throughput, na may kakayahang matugunan ang mga pangangailangan ng malakihang paggawa.

Tinatanggap ang iba't ibang laki at uri ng mga wafer: Ang mga ALD na Sustor ay karaniwang idinisenyo para sa mataas na pagiging tugma at maaaring suportahan ang iba't ibang laki at uri ng mga wafer. Ginagawa nitong epektibo sa isang iba't ibang mga proseso ng produksyon, na nagbibigay ng higit na kakayahang umangkop at kakayahang umangkop.

Bawasan ang mga gastos sa produksyon: Dahil sa mahusay na pamamahagi ng gas at pantay na kakayahan sa pag -init, pinatataas ng ALD ang kahusayan ng proseso ng pag -aalis, sa gayon binabawasan ang mga gastos sa basura at paggawa. Hindi lamang ito nakakatulong na mapabuti ang kahusayan ng produksyon ngunit makabuluhang binabawasan din ang mga gastos sa pagmamanupaktura.

Mga pangunahing pisikal na katangian ng CVD sic coating:

Production Shops:

Pangkalahatang -ideya ng Semiconductor Chip Epitaxy Industry Chain：