Balita

Ang mga pangunahing paraan ng paglago ng Silicon carbide (SiC) ay kinabibilangan ng PVT, TSSG, at HTCVD, bawat isa ay may natatanging mga pakinabang at hamon. Ang mga materyales sa thermal field na nakabatay sa carbon tulad ng mga insulation system, crucibles, TaC coatings, at porous graphite ay nagpapahusay ng paglaki ng kristal sa pamamagitan ng pagbibigay ng katatagan, thermal conductivity, at kadalisayan, na mahalaga para sa tumpak na katha at aplikasyon ng SiC.

Ang SiC ay may mataas na tigas, thermal conductivity, at corrosion resistance, na ginagawa itong perpekto para sa paggawa ng semiconductor. Ang CVD SiC coating ay nilikha sa pamamagitan ng chemical vapor deposition, na nagbibigay ng mataas na thermal conductivity, chemical stability, at isang katugmang lattice constant para sa epitaxial growth. Tinitiyak ng mababang thermal expansion at mataas na tigas nito ang tibay at katumpakan, kaya mahalaga ito sa mga application tulad ng mga wafer carrier, preheating ring, at higit pa. Dalubhasa ang VeTek Semiconductor sa mga custom na SiC coatings para sa magkakaibang pangangailangan sa industriya.

Ang Silicon Carbide (SIC) ay isang mataas na precision semiconductor material na kilala para sa mahusay na mga katangian tulad ng mataas na temperatura ng paglaban, paglaban ng kaagnasan, at mataas na lakas ng mekanikal. Mayroon itong higit sa 200 mga istruktura ng kristal, na may 3C-SIC na ang tanging uri ng cubic, na nag-aalok ng higit na likas na sphericity at pagpapagaan kumpara sa iba pang mga uri. Ang 3C-SIC ay nakatayo para sa mataas na kadaliang kumilos ng elektron, na ginagawang mainam para sa MOSFET sa mga electronics ng kuryente. Bilang karagdagan, nagpapakita ito ng malaking potensyal sa nanoelectronics, asul na LED, at sensor.

Ang Diamond, isang potensyal na pang-apat na henerasyon na "panghuli semiconductor," ay nakakakuha ng pansin sa mga substrate ng semiconductor dahil sa pambihirang tigas, thermal conductivity, at mga de-koryenteng katangian. Habang ang mataas na gastos at mga hamon sa paggawa ay nililimitahan ang paggamit nito, ang CVD ay ang ginustong pamamaraan. Sa kabila ng mga hamon sa doping at malalaking lugar na kristal, ang Diamond ay nangangako.

Ang SiC at GaN ay malawak na bandgap na mga semiconductor na may mga kalamangan kaysa sa silicon, tulad ng mas mataas na breakdown voltages, mas mabilis na bilis ng paglipat, at higit na kahusayan. Mas mahusay ang SiC para sa mga high-voltage, high-power na application dahil sa mas mataas na thermal conductivity nito, habang ang GaN ay nangunguna sa mga high-frequency na application salamat sa superyor nitong electron mobility.

Ang pagsingaw ng beam ng elektron ay isang lubos na mahusay at malawak na ginagamit na pamamaraan ng patong kumpara sa pag -init ng paglaban, na kumakain ng materyal na pagsingaw na may isang sinag ng elektron, na nagiging sanhi ng pag -singaw at pag -condense sa isang manipis na pelikula.