CVD TAC Coating Crucible

Ang TAC Coating Rotation Susceptor ay gumaganap ng isang pangunahing papel sa mga proseso ng pag -aalis ng mataas na temperatura tulad ng CVD at MBE, at isang mahalagang sangkap para sa pagproseso ng wafer sa pagmamanupaktura ng semiconductor. Kabilang sa kanila,TAC Coatingay may mahusay na mataas na paglaban sa temperatura, paglaban ng kaagnasan at katatagan ng kemikal, na nagsisiguro ng mataas na katumpakan at mataas na kalidad sa panahon ng pagproseso ng wafer.

Ang CVD TAC Coating Crucible ay karaniwang binubuo ng TAC Coating atgrapaytsubstrate. Kabilang sa mga ito, ang TAC ay isang mataas na natutunaw na point ceramic material na may natutunaw na punto ng hanggang sa 3880 ° C. Ito ay may napakataas na tigas (Vickers tigas hanggang sa 2000 HV), paglaban ng kaagnasan ng kemikal at malakas na paglaban sa oksihenasyon. Samakatuwid, ang patong ng TAC ay isang mahusay na mataas na temperatura na lumalaban sa materyal sa teknolohiyang pagproseso ng semiconductor.

Ang grapayt na substrate ay may mahusay na thermal conductivity (thermal conductivity ay tungkol sa 21 w/m · k) at mahusay na katatagan ng mekanikal. Ang katangian na ito ay tumutukoy na ang grapayt ay nagiging isang mainam na patongsubstrate.

Ang CVD TAC Coating Crucible ay pangunahing ginagamit sa mga sumusunod na teknolohiya sa pagproseso ng semiconductor:

Paggawa ng Wafer: Ang Vetek Semiconductor CVD TAC Coating Crucible ay may mahusay na mataas na paglaban sa temperatura (pagtunaw ng punto hanggang sa 3880 ° C) at paglaban ng kaagnasan, kaya madalas itong ginagamit sa mga pangunahing proseso ng paggawa ng wafer tulad ng mataas na temperatura ng singaw ng singaw (CVD) at paglaki ng epitaxial. Pinagsama sa mahusay na katatagan ng istruktura ng produkto sa mga ultra-high na temperatura ng kapaligiran, tinitiyak nito na ang kagamitan ay maaaring gumana nang matatag sa loob ng mahabang panahon sa ilalim ng labis na malupit na mga kondisyon, sa gayon ay epektibong mapabuti ang kahusayan ng produksyon at kalidad ng mga wafer.

Proseso ng paglaki ng epitaxial: Sa mga proseso ng epitaxial tulad ngChemical Vapor Deposition (CVD)at molekular na beam epitaxy (MBE), ang CVD TAC Coating Crucible ay gumaganap ng isang pangunahing papel sa pagdala. Ang TAC coating nito ay hindi lamang maaaring mapanatili ang mataas na kadalisayan ng materyal sa ilalim ng matinding temperatura at kinakaing unti -unting kapaligiran, ngunit epektibong maiwasan din ang kontaminasyon ng mga reaksyon sa materyal at ang kaagnasan ng reaktor, tinitiyak ang kawastuhan ng proseso ng paggawa at pagkakapare -pareho ng produkto.

Bilang nangungunang CVD TAC coating na tagagawa at pinuno ng China, ang Vetek semiconductor ay maaaring magbigay ng mga pasadyang mga produkto at mga teknikal na serbisyo ayon sa iyong mga kagamitan sa kagamitan at proseso. Taos-puso kaming umaasa na maging iyong pangmatagalang kasosyo sa China.

Tantalum carbide (TAC) coating sa isang mikroskopikong cross-section：

Mga pisikal na katangian ng patong ng TAC：

Ito semiconductor CVD TAC Coating Crucible Shops ：