Balita sa industriya

Ang SiC ay may mataas na tigas, thermal conductivity, at corrosion resistance, na ginagawa itong perpekto para sa paggawa ng semiconductor. Ang CVD SiC coating ay nilikha sa pamamagitan ng chemical vapor deposition, na nagbibigay ng mataas na thermal conductivity, chemical stability, at isang katugmang lattice constant para sa epitaxial growth. Tinitiyak ng mababang thermal expansion at mataas na tigas nito ang tibay at katumpakan, kaya mahalaga ito sa mga application tulad ng mga wafer carrier, preheating ring, at higit pa. Dalubhasa ang VeTek Semiconductor sa mga custom na SiC coatings para sa magkakaibang pangangailangan sa industriya.

Ang Silicon Carbide (SIC) ay isang mataas na precision semiconductor material na kilala para sa mahusay na mga katangian tulad ng mataas na temperatura ng paglaban, paglaban ng kaagnasan, at mataas na lakas ng mekanikal. Mayroon itong higit sa 200 mga istruktura ng kristal, na may 3C-SIC na ang tanging uri ng cubic, na nag-aalok ng higit na likas na sphericity at pagpapagaan kumpara sa iba pang mga uri. Ang 3C-SIC ay nakatayo para sa mataas na kadaliang kumilos ng elektron, na ginagawang mainam para sa MOSFET sa mga electronics ng kuryente. Bilang karagdagan, nagpapakita ito ng malaking potensyal sa nanoelectronics, asul na LED, at sensor.

Ang Diamond, isang potensyal na pang-apat na henerasyon na "panghuli semiconductor," ay nakakakuha ng pansin sa mga substrate ng semiconductor dahil sa pambihirang tigas, thermal conductivity, at mga de-koryenteng katangian. Habang ang mataas na gastos at mga hamon sa paggawa ay nililimitahan ang paggamit nito, ang CVD ay ang ginustong pamamaraan. Sa kabila ng mga hamon sa doping at malalaking lugar na kristal, ang Diamond ay nangangako.